当今电子制造商的完美分析仪

1.精确分析
定位平台的精度和毛细管聚焦光学机构意味着您可以测量小于50um的纳米级镀层。
2.速度
与传统设备相比，FT160内置的高强度毛细管光学系统和改良型SDD检测器有助于将仪器的分析效率翻倍。
3.多功能性
得益于大型的样品舱门，操作员可轻松装载和移除样品，而大样品台可容纳各种形状和尺寸的组件。
4.耐久性
坚固的机架设计，在极具挑战性的生产或实验室环境中具有长时间使用寿命。
5.安全性
借助宽大的样品观察窗，操作员能够在室门保持锁定的同时查看整个分析过程。
6.兼容性

测量方法符合标准ISO3497ASTM B568和DIN50987。

特点

高强度X射线-仪器的核心所在是全新的细管聚焦光学系统，其产生的30um光束于测量微小的半导体图案和超小型元件。
高灵敏度的SDD检测器-这一高性能确保实施可重复测量以提高生产力。
大型样品舱门-便于操作员装载和卸载线路板，晶片和组件，以便FT160容纳各种形状的部件。
高清摄像机和多模式照明-样品观测摄像机的分辨率一16倍数码变焦一结合改进的照明，使半导体表面清晰锐利，便于精确定位。
易于使用的控制器软件-只需在屏幕上选择电镀和测量点，然后运行分析。
测定含有从铝(13)到铀(92)元素的镀层厚度和成分。

可选件

我们提供针对不同部件的三种样品舱:

FT160-灵活标准配置测量组件和板。

FT160S-小型部件占地面积小，性能与大型配置相同。

FT160L-适用于600x600 mm以下线路板的较大样品台。
选择钨(W)或钼(Mo)X射线管阳极以优化应用性能。
图片处理软件一可指导仪器根据形状和图案自动查找测量位置。
晶片样品台一便于操作4"到12”的晶圆。